





在室温(25℃)和气体压力为p(pa)的条件下,残余气体分子的平均自由程为λ=6.65×10-1/pcm(2)由上式计算可知,在室温下,p=10-2pa时,λ=66.5cm,即一个分子在与其它分子发生两次碰撞之间约飞行66.5cm。碰撞图2是蒸发粒子在飞向基片途中发生碰撞的比例与气体分子的实际路程对平均自由程之比值的曲线。从图中可以看出,当λ=l时,有63%的蒸发分子会发生碰撞。如果平均自由程增加10倍,则散射的粒子数减少到9%,因此,蒸发粒子的平均自由程必须远远大于蒸距才能避免蒸发粒子在向基片迁移过程中与残余气体分子发生碰撞,从而有效地减少蒸发粒子的散射现象。目前常用的蒸发镀膜机的蒸距均不大于50cm。 次数用完api key 超过次数---

因此需要合理设计镀膜设备的抽气系统,---膜材蒸汽分子到达基片表面的速率高于残余气体分子到达的速率,以减少残余气体分子对膜层的撞击和污染,提高膜层的纯度。此外,在10-4pa时真空室内残余气体的主要组分为水蒸气(约占90%以上),水气与金属膜层或蒸发源均会发生化学反应,生成氧化物而释放出氢气。因此,为了减少残余气体中的水分,可以提高真空室内的温度,家具镀钛加工服务,使水分解,也是提高膜层的一种有效办法。还应注意蒸发源在高温下的放气。在蒸发源通电加热之前,可先用挡板挡住基片,然后对膜材加热去气。 次数用完api key 超过次数---

真空镀膜一种通过物理方法生产薄膜材料的技术。真空室中材料的原子与热源隔离,并撞击要镀覆的物体表面。这项技术*首先用于生产光学透镜,例如船用望远镜透镜。后来扩展到其他功能膜,例如记录铝电镀,装饰涂层和材料表面改性。例如,表壳镀有仿金,然后对机床进行了涂层处理以改变加工硬度。真空镀膜主要使用辉光放电在目标表面击中ya(ar)离zi。靶的原子被喷射并沉积在基板表面上以形成薄膜。溅射膜的性质和均匀性优于蒸发膜,但是涂布速度比蒸发膜慢得多。 次数用完api key 超过次数---
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