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电子束蒸发镀膜

利用高速电子束加热使材料汽化蒸发，在基片表面凝结成膜的技术。电子束热源的能量密度可达104-109w/cm2，可达到3000℃以上，装饰不锈钢镀钛服务，可蒸发高熔点的金属或介电材料如钨、钼、锗、sio2、al2o3等。

电子束加热的蒸镀源有直型电子和e型电子两种(也有环行)，电子束自源发出，用磁场线圈使电子束---和偏转，对膜料进行轰击和加热。

电弧蒸发镀膜

在高真空下通过两导电材料制成的电极之间产生电弧放电，利用电弧高温使电极材料蒸发。电弧源的形式有交流电弧放电、直流电弧放电和电子轰击电弧放电等形式。

优点薄膜纯度高造价低适用于具有一定导电性的难熔金属、石墨等

缺点

    会飞溅出微米级的靶材料颗粒，影响薄膜

利用高频电磁场感应加热，使材料汽化蒸发在基片表面凝结成膜的技术。