镀料原子、分子或离子在基体上沉积：工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。
离子镀时，表面镀钛公司，蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能，高速轰击工件时，不但沉积速度快，而且能够穿透工件表面，形成一种注入基体很深的扩散层，离子镀的界面扩散---可达四至五微米，也就是说比普通真空镀膜的扩散---要深几十倍，金属表面镀钛公司，甚百倍，淮北镀钛公司，因而彼此粘附得---牢。
与不同的气体发应形成一种薄膜涂层。今天所使用的大多数pvd方法是电弧和溅射沉积涂层。这两种过程需要在高度真空条件下进行。ionbond 阴极电弧pvd涂层技术在20世纪70年代后期由---发明，如今，绝大多数的刀模具涂层使用电弧沉积技术。
工艺温度：典型的pvd涂层加工温度在250℃— 450℃之间，但在有些情况下依据应用领域和涂层的，pvd涂层温度可低于70℃或高于600℃进行涂层。
点可蒸发任何材料薄膜纯度高直接作用于材料表面，热
缺点电子结构复杂，造价高化合物沉积时易分解，化学比失调
3激光蒸发镀膜
采用高能激光束对材料进行蒸发，用以形成薄膜的方法，一般称为激光蒸镀。
优点薄膜纯度高蒸发速率高---适合蒸发成分复杂的合金或化合物，膜层的化学计量比与靶材保持一致
缺点
易产生微小颗粒飞溅，影响薄膜
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