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感应加热式蒸发镀膜

利用高频电磁场感应加热，使材料汽化蒸发在基片表面凝结成膜的技术。

优点蒸发速率大，可比电阻蒸发源大10倍左右  蒸发源的温度稳定，不易产生飞溅现象坩埚温度较低，坩埚材料对膜导污染较少缺点蒸发装置必须屏蔽造价高、设备复杂

在真空中，装饰镀钛厂家哪里有，高能粒子轰击材料表面，使其原子获得足够的能量而逸出表面，到达衬底凝结成膜的技术。

与真发镀膜相比，溅射镀膜适用于所有（包括高熔点）材料，具有附着力强、成分可控、易于规模化生产等优点。

但其工作气压低于蒸发镀膜，因此膜层的含气量和孔隙率大于蒸发镀膜。

离子镀

在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离，并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下，将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法。可将离子发生源与工作室分离，曹县装饰镀钛厂家，克服了溅射镀膜为了持续放弧而必须保持较高的工作气压的缺陷，装饰镀钛厂家价格，高能离子对衬底和沉积薄膜表面的轰击---了薄膜的附着力和，是一种结合了蒸发镀膜和溅射镀膜优势的pvd技术。

根据离化方式的不同，常用的离子源有考夫曼离子源、射频离子源、霍尔离子源、冷阴极离子源、电子回旋离子源等。