处理镀钛-商丘镀钛-金常来企业

在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。

pvd真空镀层按照膜层应用来分类可分为装饰膜层和硬质膜层：

装饰膜层可以---工件外观装饰性能和色泽同时使工件更耐磨耐腐蚀；硬质膜层用于提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系数，提高工件的使用寿命。

pvd技术的应用范围及优缺点

其应用范围是：

1）碳钢、合金钢、不锈钢及钛合金等金属材料；

2）金属材料的表面硬度至少需要在hv170以上。

其优点是:

与传统磁控溅射单色pvd技术相比，双色pvd工艺更为复杂，流程更为繁杂，商丘镀钛，生产难度高，家具镀钛，但外观效果，两种颜色的表面硬度都在hv600以上。

传统磁控溅射单色pvd技术要在实现双色效果，采取的工艺措施是在整体pvd单色的基础上把需要实现另一种颜色的区域激光镭雕掉或者磨掉。



较为成熟的 pvd 方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。多弧镀设备结构简单，容易操作。它的离子蒸发源靠电焊机电源供电即可工作，其引弧的过程也与电焊类似，具体地说，处理镀钛，在一定工艺气压下，引弧针与蒸发离子源短暂接触，断开，使气体放电。由于多弧镀的成因主要是借助于不断移动的弧斑，在蒸发源表面上连续形成熔池，使金属蒸发后，表面镀钛，沉积在基体上而得到薄膜层的，与磁控溅射相比，它不但有靶材利用率高，更具有金属离子离化率高，薄膜与基体之间结合力强的优点。



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