







磁控溅射是70年代在阴极溅射的基础上发展起来的一种新型溅射镀膜法,由于它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的致命弱点,因此获得了迅速的发展和广泛的应用.
1. 磁控溅射:
离子轰击靶材将靶面原子击出的现象称为溅射.溅射产生的原子沉积在基体(工件)表面即实现溅射镀膜.
磁控溅射的基本原理:
磁控溅射是在溅射区加了与电场方向垂直的磁场,处于正交电场区e和磁场b中的电子的运动方程,

基片置于合适的位置是获得均匀薄膜的前提条件.
b、压强的大小. 为了---膜层,压强应尽可能低pr≦(pa)
l表示蒸发源到基片的距离为l(cm)。
c、蒸发速率.蒸发速率小时,处理不锈钢镀钛多少钱,沉积的膜料原子(或分子)上---吸附气体分子,因而形成的膜层结构疏松,颗粒粗大,缺陷多;反之,膜层结构均匀致密,金属不锈钢镀钛多少钱,机械强度高,膜层内应力大.
d、基片的温度.在通常情况下,基片温度高时,吸附原子的动能随之增大,形成的薄膜容易结晶化,并使晶格缺陷减少;基片温度低时,则没有足够大的能量供给吸附原子,因而容易形成无定形态薄膜.

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